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第268章 28nm是一个重要的工艺节点(2 / 2)

通过这一个月的集中攻坚,情况果然好了不少。

浸没系统的加入,让光刻机发出的波长从193nm突破到了132nm,这使得工艺可以突进到45nm、28nm,甚至以内。

“28nm是一个重要的工艺节点,这是我们必须突破的,只有这样,这个光刻机,才能真正有用。”江成提醒道。

再往下突破28nm,向20nm,甚至14nm进军,就要用到FinFET技术。

这个技术来源于胡正明教授,一个米籍华人,米国国家工程院院士。

当然,在光刻机量产之后,江成在自己的FAB厂必然要钻研这些技术,让工艺迭代,往更高的进程进发。

连广浩点点头,“现在浸没系统已经没问题了,下一步我们会对照问题,尽快地优化好,争取一次性通过验收。”

“嗯,后天工业部的易国彬副部长和华科院的白春华院长一行会过来,大伙加把劲,把刚才提出的问题先修改好。”江成又说道,这事是刚刚定下来的。

正式的文件已经传真了过来。

一下子两人都过来了,显然就是要来看看这个整机是不是真的达到了要求。

也许是打个前站。

连广浩嘿嘿一笑,“咱们这问题不大,能够达到验收要求。”

就是距离江成的要求,还差一些。

江成可不是为了完成任务而定的标准,相反,连广浩他们都觉得江成的标准太高了。

那是要把浸没式光刻机整得直接交付代工厂的水平。

按照以往一贯的尿性,有的成绩了就先吹的,后面慢慢改进,同时边做营销,会同代工厂一并优化完善,再推出改进产品。

但江成不同,他要求的就是改进的产品,一些小问题,他都盯着非常紧,有些甚至就一个螺丝的问题,都要求更换。

一些设计不合理的地方,他们都已经更改了几回设计了。

不过,虽然这些花了他们一些时间和精力,但他们整体研发很顺利呀!

除了浸没系统这块,江成插手得更少一些,其他的在他的指导下,显得称手如意,都是一遍过。

再指导了一会,江成出了实验室。

光刻机成功在即,下一步,就是通过验收,并收取订单了。

华芯国际已经承诺了一台。

当然,江成相信,随着产品在江成的手上更加完善,良率得到提升,那么,第二台、第三台,都将会有。

而且江成打算的是订购2台。

建一条28nm的生产线先用着,至于后面,江成还是想继续研究EUV光刻机,甚至换过一种思路,比如说光芯片、碳芯片。

这两个目前来说,是当前科技研究的主流,当然目前仍然只停留在实验和理论中,甚至有些理论都还没有突破。

但江成的枫火集团,是致力于研发科技前沿技术,现在多赚些钱,也是为了更好的研究未来。

对江成来说,除了以上两种,他还将研究的是,生物芯片技术。

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