通过这一个月的集中攻坚，情况果然好了不少。
浸没系统的加入，让光刻机发出的波长从193nm突破到了132nm，这使得工艺可以突进到45nm、28nm，甚至以内。
“28nm是一个重要的工艺节点，这是我们必须突破的，只有这样，这个光刻机，才能真正有用。”江成提醒道。
再往下突破28nm，向20nm，甚至14nm进军，就要用到FinFET技术。
这个技术来源于胡正明教授，一个米籍华人，米国国家工程院院士。
当然，在光刻机量产之后，江成在自己的FAB厂必然要钻研这些技术，让工艺迭代，往更高的进程进发。
连广浩点点头，“现在浸没系统已经没问题了，下一步我们会对照问题，尽快地优化好，争取一次性通过验收。”
“嗯，后天工业部的易国彬副部长和华科院的白春华院长一行会过来，大伙加把劲，把刚才提出的问题先修改好。”江成又说道，这事是刚刚定下来的。
正式的文件已经传真了过来。
一下子两人都过来了，显然就是要来看看这个整机是不是真的达到了要求。
也许是打个前站。
连广浩嘿嘿一笑，“咱们这问题不大，能够达到验收要求。”
就是距离江成的要求，还差一些。
江成可不是为了完成任务而定的标准，相反，连广浩他们都觉得江成的标准太高了。
那是要把浸没式光刻机整得直接交付代工厂的水平。
按照以往一贯的尿性，有的成绩了就先吹的，后面慢慢改进，同时边做营销，会同代工厂一并优化完善，再推出改进产品。
但江成不同，他要求的就是改进的产品，一些小问题，他都盯着非常紧，有些甚至就一个螺丝的问题，都要求更换。
一些设计不合理的地方，他们都已经更改了几回设计了。
不过，虽然这些花了他们一些时间和精力，但他们整体研发很顺利呀！
除了浸没系统这块，江成插手得更少一些，其他的在他的指导下，显得称手如意，都是一遍过。
再指导了一会，江成出了实验室。
光刻机成功在即，下一步，就是通过验收，并收取订单了。
华芯国际已经承诺了一台。
当然，江成相信，随着产品在江成的手上更加完善，良率得到提升，那么，第二台、第三台，都将会有。
而且江成打算的是订购2台。
建一条28nm的生产线先用着，至于后面，江成还是想继续研究EUV光刻机，甚至换过一种思路，比如说光芯片、碳芯片。
这两个目前来说，是当前科技研究的主流，当然目前仍然只停留在实验和理论中，甚至有些理论都还没有突破。
但江成的枫火集团，是致力于研发科技前沿技术，现在多赚些钱，也是为了更好的研究未来。
对江成来说，除了以上两种，他还将研究的是，生物芯片技术。