“光刻机。”
苏酥平静地说道。
光刻机，制造芯片必备的设备！
因为西方国家的封锁，华夏一直没有研发出自己的光刻机。
因此，华夏的芯片事业一直止步不前。
“是的，苏酥同学真聪明。”
负责人惊讶又欣慰地看着苏酥说道。
“什么嘛老李，得叫苏教授，十七岁的副教授，你见过没有？”
武平笑着拍了拍负责人的肩膀。
“不好意思啊苏教授，我们这次请两位过来的目的，就是帮忙制造光刻机，也希望两位能够出全力啊。”
负责人一脸期待地对苏酥和武平说道。
“那是一定。”
苏酥点头回道。
制造光刻机，尤其是高端光刻机，是一项很复杂的工程。
目前国际最领先的技术也只能做到小于5纳米的芯片晶圆，而且也只能用EUV光刻机生产。
更别说，现在世界也只有贺兰国和樱花国有能力制造出尖端的光刻机。
苏酥了解了现在课题小组的进展，发现现在制造光刻机还有以下几个难题：
（1）光源问题，这是实现各种微米甚至纳米级别的图形加工的媒介，目前最先进的技术是13.5nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸，相当于从地球上发射出了一束手电光。
（2）反射镜问题，它可以把模板上的电路图等比例缩小，在硅片上以电路图的形式呈现出来。拿顶尖的反射镜举个例子，假设差不多半米直径的镜面是德国国土面积那么大，那么其局部的凹凸不能超过1mm。
（3）工作台问题。光刻机的工作台控制了芯片在制造生产中的纹路刻蚀，工作台的移动精度越高，所加工的芯片精度就越高。这一点上，就连世界第一科技强国莓国也一直没有突破。
这三点，共同构成了整个可以团队现在面临的问题，而且基本上是按次序来的，必须逐个解决。
苏酥直接投入了光源问题的研究。
苏酥改进了之前的方法，用激光去不断轰击滴落下来的金属锡滴液，在进行连续轰击之后，激发出EUV等离子体，获得波长更短的光。
经过一系列的改进，半个月后，苏酥终于获得了2nm的光源，比现在世界上最先进的13.5nm的光源还先进了好几个台阶。
当苏酥欣喜地把自己的实验成果展现给整个研究小组的人看的时候，研究小组的人都惊呆了，真的是2nm的光源！
他们又仿照了苏酥的步骤，果然得到了2nm的光源，这下全场爆发出雷鸣般的掌声。这些纯粹的科学家们互相拥抱击掌，庆祝这一突破。
当然，开心过后，每个人也都签了一份保密协议：未经允许，谁也不准把这项技术交给其他人。
接下来便是反射镜的问题，苏酥花了一个月，在研究了反射镜的原理以及发展方向后，果断地对多层膜反射镜进行了改良，研究出超级镜。
其反射性能之强，也远超现在最先进的蔡司系列，尤其是反射效率，达到了惊人的91％，几乎是现在平均水平的两倍。
这下，研究小组的人彻底麻木，甚至有些人已经躺平，来帮助苏酥处理吃喝的事情，让苏酥专心攻克最后一个难题。
负责人甚至打趣道：
“苏酥留下，剩下的人都滚蛋，在这白吃白喝，啥用都没有。”
当然众人都知道负责人是在开玩笑，他对他们这些科学家可是当宝贝一样对待。
当然，最后一个难题在苏酥手里也是小菜一碟。
苏酥经过研究实验后发现，在国际都在单工作台思路上努